韩国《中央日报》7月26日报道,25日,三星电子在京畿道华城的极紫外线光刻(EUV)专用代工(半导体委托生产)设施V1生产线举行了全球首次应用全环绕栅极(GAA)技术的3纳米晶圆代工制程芯片的出厂仪式。三星电子从2000年代初开始研究GAA晶体管结构。
据报道,三星电子的3纳米芯片批量生产比台积电领先一步。
韩国《中央日报》7月26日报道,25日,三星电子在京畿道华城的极紫外线光刻(EUV)专用代工(半导体委托生产)设施V1生产线举行了全球首次应用全环绕栅极(GAA)技术的3纳米晶圆代工制程芯片的出厂仪式。三星电子从2000年代初开始研究GAA晶体管结构。
据报道,三星电子的3纳米芯片批量生产比台积电领先一步。