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三星计划在2025年开始大规模生产基于GAA的2nm芯片

IT之家6月20日消息,据BusinessKorea报道,三星电子正计划通过在未来三年内打造3纳米GAA(Gate-all-around)工艺来追赶世界第一大代工公司——台积电。

三星计划在2025年开始大规模生产基于GAA的2nm芯片

据悉,GAA是下一代工艺技术,改进了半导体晶体管的结构,使栅极可以接触到晶体管的所有四面,而不是目前FinFET工艺的三面,GAA结构可以比FinFET工艺更精确地控制电流。

根据TrendForce的数据,在2021年第四季度,台积电占全球代工市场的52.1%,远远超过三星电子的18.3%。

三星电子正押注于将GAA技术应用于3纳米工艺,以追赶台积电。据报道,这家韩国半导体巨头在6月初将3纳米GAA工艺的晶圆用于试生产,成为全球第一家使用GAA技术的公司。三星希望通过技术上的飞跃,快速缩小与台积电的差距。3纳米工艺将半导体的性能和电池效率分别提高了15%和30%,同时与5纳米工艺相比,芯片面积减少了35%。

继今年上半年将GAA技术应用于其3纳米工艺后,三星计划在2023年将其引入第二代3纳米芯片,并在2025年大规模生产基于GAA的2纳米芯片。台积电的战略是在今年下半年使用稳定的FinFET工艺进入3纳米半导体市场,而三星电子则押注于GAA技术。

专家称,如果三星在基于GAA的3纳米工艺中保证了稳定的产量,它就能成为代工市场的游戏规则改变者。台积电预计将从2纳米芯片开始引入GAA工艺,并在2026年左右发布第一个产品。对于三星电子来说,未来三年将是一个关键时期。

最近,三星宣布,在未来五年内,将在半导体等关键行业投资共计450万亿韩元(约2.34万亿元人民币)。然而,三星在3纳米工艺方面遇到了障碍。与三星一样,台积电在提高3纳米工艺的产量方面也有困难。

IT之家了解到,台积电原本计划从7月开始用3纳米技术为英特尔和苹果大规模生产半导体,但在确保理想的产量方面遇到了困难。DigiTimes报道称,台积电在确保3纳米工艺的理想产量方面遇到了困难,因此多次修改其技术路线图。

三星电子也面临着类似的情况,3纳米工艺的试生产用晶圆已经投入使用,但由于产量低的问题,该公司一直在推迟宣布正式的大规模生产。现代汽车证券的研究主管RohKeun-chang说:“除非三星电子为其7-nm或更先进的工艺确保足够的客户,否则可能会加剧投资者对三星电子未来业绩的焦虑。”

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